アーティスト・イン・レジデンスプログラム
2027

スー・オーメとキャサリン・シューマン・ミラー(印刷中)

詳細および応募用紙はこちらをご覧ください

CWAJアーティスト・イン・レジデンス プログラム2027のご案内

CWAJアーティスト・イン・レジデンス2027は、CWAJ現代版画展で作品を展示した経験のある日本人アーティスト、および日本在住の特別永住者の方に、アメリカの版画工房で滞在制作する貴重な機会を提供するプログラムです。応募に年齢制限はありません。

新しい技術を学び、創作の幅を広げ、日米の文化交流を体験する——そんな機会を求める版画作家のために、このプログラムを企画しました。ぜひ挑戦してください。

スー・オーメが36×56の木版画にインクを塗っているところ

マスタープリンターとして40年近くの経験を持つスー・オーメは、その豊富な知識と技術をオーメ・グラフィックスでの版画制作プロジェクトに注いでいます。スタジオでの制作時間のほぼすべての場面に通底しているのが、「協働」という考え方です。技法、色彩、イメージについての判断は、共有の場で話し合いながら決められ、そこに集うすべての人が自分の考えやアイデアを出し合います。一つの課題に複数の頭脳で取り組むことこそが、最良の解決策を見出す力になると信じているからです

 

OGでのレジデンス期間中、アーティストたちは自身のイメージを実現するための多様な新しい手法や、色の組み合わせ、インクの調合について新たな発見をし、それぞれの制作活動に持ち帰るための新しいアイデアを頭の中に芽吹かせながらスタジオを後にすることになるでしょう。アーティストがさらなる探求への足がかりとなる何か新しいものを見出したとき、そのプロジェクトは成功したと言えるのです。

 

スー・オーメ(マスタープリンター/オーメ・グラフィックス代表)

 

https://oehmegraphics.com/
https://www.sueoehme.com/

 

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