CWAJアーティスト・イン・レジデンス・プログラム2027 応募受付開始

過去にCWAJ現代版画展、併設展、特別展、YPA、ロロ・ピアーナ女性アーティスト賞等に出品・入選経験のある版画作家から1名を選出し、2027年5月～10月の間の2週間、Oehme Graphics Studioで制作活動を行う機会を提供します。

制作スタジオと宿泊施設が無償で提供されるほか、航空運賃は最大325,000円まで支給されます。

新しい技術を学び、創作の幅を広げ、日米の文化交流を深める——そんな体験を求める版画作家のために、このプログラムを企画しました。ぜひご応募ください。

プログラムの詳細と応募方法は、cwaj.org/AIR をご覧ください。